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非自耗真空電弧爐

非自耗真空電弧爐

所屬分類:非自耗真空電弧爐

產(chǎn)品型號:KDH-1000

更新時(shí)間:2023-06-12

描述:非自耗真空電弧爐配置電磁攪拌,真空吸鑄,紐扣錠工位,長條工位等,多重形態(tài)的工位供客戶選擇,用于超高溫合金,稀貴金屬等材料的熔煉和制樣。

詳細(xì)信息

非自耗真空電弧爐技術(shù)參數(shù)

1)電弧熔煉室:立式圓筒型真空室。

2)冷態(tài)極限真空度:≤6.7x10-4 Pa.

3)熔煉電流:額定電流1000 A.

4)設(shè)備加熱溫度:3500~4000℃.

5)熔煉堝有五個(gè)工位,三個(gè)熔煉合金工位(一個(gè)帶電磁攪拌),一個(gè)熔煉除氣工位,一個(gè)吸鑄工位。

6)熔煉樣品重量(以鐵標(biāo)定):1x500克,1x200克,1x100克。

7)熔煉除氣工位(以鐵標(biāo)定):1X80克。

8)吸鑄工位(以鐵標(biāo)定):1x80克

9)電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻和接觸式引弧。

非自耗真空電弧爐是利用等離子體的高溫、高能量和高活性進(jìn)行金屬材料的熔煉和自然晶體生長。真空電弧加熱方式使用射頻(RF)發(fā)生器產(chǎn)生高頻應(yīng)用場來引導(dǎo)鋁箔放電,形成電弧及其等離子體。當(dāng)鋁箔被加熱到其熔點(diǎn)以上時(shí),它流動(dòng)到集合內(nèi)靜電場所達(dá)到的垂直表面之上,隨即由于放電中所釋放的熱量再次熔融。

通過射頻激勵(lì)產(chǎn)生的正交場驅(qū)使電子和離子振蕩同時(shí)進(jìn)行,從而沿水平方向等離子體根據(jù)振蕩情況形成橫立電極間的放電,將鋁箔熔化。產(chǎn)生等離子體振蕩與固體的粉末材料噴入同步進(jìn)行,使晶體從等離子被構(gòu)成之間的沉積所形成。
  為了使?fàn)t內(nèi)通量達(dá)到這么高,采用了復(fù)合泵結(jié)構(gòu)。它的系統(tǒng)由機(jī)械泵,分子泵和渦流泵三個(gè)主要元素組成。機(jī)械泵接在實(shí)驗(yàn)的氣缸中,可以把氣壓降低到10~20Pa。在機(jī)械泵附近的地方,有一臺分子泵,該泵通過熱板對時(shí)機(jī)長出的氣體進(jìn)行壓縮。因此,把機(jī)械泵科學(xué)地注入高分子涂層膜后,很快就可以將在爐內(nèi)流動(dòng)的氣壓降低到10-6mbar下面,這樣也可以使處理材料時(shí)營造適合的環(huán)境。

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